Equipmentsnt

　開発するデバイスは超微細なサイズでも、その作製には、微細パターン露光転写装置、プラズマエッチング装置、真空薄膜形成装置などの大型プロセス装置が必要となります。　本研究室では、必要に応じてプロセス装置を自作開発したり、学内外の連携先の装置を使用して、デバイスを製作していきます。

　主な装置

　（誘導結合プラズマ-反応性イオンエッチング：
　　Inductively couppled Deep Reactive Ion Etching)

　・スパッタリング装置　（Sputtering)

＜フォトリソグラフィ・微細パターン露光関係＞

　・両面マスクアライナー　