露光装置　（両面マスクアライナ、円筒露光装置

両面マスクアライナー


シリコン基板などを裏面に形成してある微細パターンに
精密に位置合わせし、表側にマスクパターンを露光･転写する装置です。
両面から一括微細加工して3D構造のMEMSデバイスを作製するために用います。

円筒露光装置
　
極細のロッドやチューブの表面へマスクパターンを転写する装置です
（自作開発）。

　　　
左図：φ0.6mmのパイプ表面への転写（幅 20 μm, 直線パターン）
右図：φ1mmの形状記憶合金(SMA)チューブへのアクチュエータパターン形成